(19)中华 人民共和国 国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202111594931.5 (22)申请日 2021.12.24 (71)申请人 昆山福拉特自动化设备有限公司 地址 215300 江苏省苏州市昆山市周市镇 順昶路183号 (72)发明人 钟立华　朱邦余　李欣　 (74)专利代理 机构 南京汇盛专利商标事务所 (普通合伙) 32238 代理人 徐彪 (51)Int.Cl. C23G 5/00(2006.01) C23C 14/56(2006.01) C23C 14/04(2006.01) B08B 6/00(2006.01) B08B 5/04(2006.01)B08B 13/00(2006.01) (54)发明名称 一种改善掩 模版清洗效果的装置及方法 (57)摘要 本发明公开了一种改善掩模版清洗效果的 装置及方法， 通过在掩膜版网表 面区域产生静电 场， 并且particle所受电场力背离掩膜版网的手 段或方案， 达到了利用电场力去除掩膜版网表面 particle的效果， 金属板和粘尘垫开通孔， 并添 加负压空气， 可将脱落的Particle吸走， 也可以 弥补静电场力的不足， 增强对Particle的吸引 力。 整个结构可以有效减少particle的残余量， 保证后续Mask对基 板的蒸镀效果。 权利要求书1页 说明书2页 附图1页 CN 114232001 A 2022.03.25 CN 114232001 A 1.一种改善掩 模版清洗效果的方法， 其特 征在于： 包括 1） 将金属板水平置 于掩膜版的掩膜版网上端， 在金属板的下端面贴有粘尘垫； 2） 直流电源的正负电极分别连接金属板与掩膜版， 并向金属板和掩膜版上通异种电 荷， 此时金属板和掩膜版组成平行板电容器， 二者之间形成静电场， 掩膜版表 面的微粒会带 和掩膜版同种电荷， 此时微粒受电场力作用背离掩膜版而趋向粘尘垫， 并被粘尘垫粘合； 3） 对于掩膜版下端面无法穿过掩膜版网的微粒， 将金属板置于掩膜版下端再通电吸附 即可。 2.如权利要求1所述的改善掩模版清洗效果的方法， 其特征在于： 金属板与掩膜版通电 后， 在金属板背面 通负压空气， 用以弥补静电场力的不足， 增强对微粒的吸引力。 3.如权利要求2所述的改善掩模版清洗效果的方法， 其特征在于： 在金属板和粘尘垫上 均开若干个孔， 粘尘垫上 的每个孔与金属板上对应位置的每个孔同轴贯通， 所述孔用于负 压吸附。 4.一种改善掩模版清洗效果的装置， 其特征在于： 包括金属板 （1） 、 粘尘垫 （2） 、 掩膜版 （3） 和直流电源， 所述金属板 （1） 置于掩膜版 （3） 的上方或下方， 且与掩膜版 （3） 相互平行， 在 金属板 （1） 相对的端面上固定有粘尘垫 （2） ， 直流电源的两个电极分别 连接在金属 板 （1） 和 掩膜版 （3） 上， 并使金属板 （1） 与掩膜版 （3） 之间形成静电场。 5.如权利要求4所述的改善掩模版清洗效果的装置， 其特征在于： 所述金属板和粘尘垫 上均开若干个孔 （4） ， 粘尘垫上的每个孔与金属板上对应位置的每个孔同轴贯通， 在金属板 （1） 的背面 通有负压空气。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 114232001 A 2一种改善掩模 版清洗效果 的装置及方法 [0001]技术领域： 本发明涉及一种改善掩 模版清洗效果的装置及方法。 [0002]背景技术： 掩膜版 （Mask） 在蒸镀过程中起着非常重要的作用。 蒸镀完毕的Mask上面有机物居 多， 清洁Mask上残留有机物多用有机溶剂NMP （N ‑甲基吡咯烷酮） 配合超声波振动清洗。 这种 清洗方式可将大部分蒸镀材料清洗掉， 但是， 有些微粒 （particle） ， 例如： 纤维、 金属碎屑 等， 由于很难溶解于Mask  Cleaner中的有机溶剂， 导致此类微粒难以被清洗掉， 会残留在 Mask上面， 影响后续Mask对基板的蒸镀效果。 [0003]发明内容： 本发明是为了解决上述现有技术存在的问题而提供一种改善掩模版清洗效果的 装置及方法。 [0004]本发明所采用的技 术方案有： 一种改善掩 模版清洗效果的方法， 包括 1） 将金属板水平置 于掩膜版的掩膜版网上端， 在金属板的下端面贴有粘尘垫； 2） 直流电源的正负电极分别连接金属板与掩膜版， 并向金属板和掩膜版上通异种 电荷， 此时金属板和掩膜版 组成平行板电容器， 二者之 间形成静电场， 掩膜版表面的微粒会 带和掩膜版同种电荷， 此时微粒受电场力作用背离掩膜版而趋向粘尘垫， 并被粘尘垫粘合； 3） 对于掩膜版下端面无法穿过掩膜版网的微粒， 将金属板置于掩膜版下端再通电 吸附即可。 [0005]进一步地， 金属板与 掩膜版通电后， 在金属板背面通负压空气， 用以弥补静电场力 的不足， 增强对微粒的吸引力。 [0006]进一步地， 在金属板和粘尘垫上均开若干个孔， 粘尘垫上的每个孔与金属板上对 应位置的每 个孔同轴贯 通， 所述孔用于负压吸附。 [0007]本发明还公开了一种改善掩模版清洗效果的装置， 包括金属板、 粘尘垫、 掩膜版和 直流电源， 所述金属板置于掩膜版的上方或下方， 且与掩膜版相互平行， 在金属板相对的端 面上固定有粘尘垫， 直流电源的两个电极分别连接在金属板和掩膜版上， 并使金属板与掩 膜版之间形成静电场。 [0008]进一步地， 所述金属板和粘尘垫上均开若干个孔， 粘尘垫上的每个孔与金属板上 对应位置的每 个孔同轴贯 通， 在金属板的背面 通有负压空气。 [0009]本发明具有如下有益效果： 通过在掩膜版 网表面区域产生静电场， 并且particle所受电场力背离掩膜版 网的 手段或方案， 达到了利用电场力去除掩膜版网表面particle的效果， 金属 板和粘尘垫开通 孔， 并添加负压空气， 可将脱落的Particle吸走， 也可以弥补静电场力的不足， 增强对 Particle的吸引力。 整个结构可以有效减少particle的残余量， 保证后续Mask对基板的蒸 镀效果。 [0010]附图说明：说　明　书 1/2 页 3 CN 114232001 A 3