(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202111666654.4 (22)申请日 2021.12.31 (71)申请人 华海清科股份有限公司 地址 300350 天津市津南区咸水沽海河科 技园聚兴道1 1号 (72)发明人 赵德文　路新春　刘远航　 (51)Int.Cl. B08B 1/04(2006.01) B08B 3/02(2006.01) B08B 5/02(2006.01) B08B 13/00(2006.01) B24B 27/033(2006.01) B24B 37/34(2012.01) B24B 41/04(2006.01) B24B 47/12(2006.01) B24B 55/06(2006.01) (54)发明名称 一种用于 基板减薄的清洗装置 (57)摘要 本发明公开了一种用于基板减薄的清洗装 置， 所述清洗装置包括清洗部、 驱动部和承 载部， 所述承载部为板状结构， 所述 驱动部设置于所述 承载部的侧面， 所述清洗部与所述驱动部连接， 所述驱动部驱动清洗部旋转 以清洗吸盘工作台 或基板； 所述清洗部包括第一清洗单元和第二清 洗单元， 其中一个清洗单元的底部配置有刷体及 修整体， 以清洗吸盘工作台； 其中另一个清洗单 元的底部 配置有刷体， 以清洗 基板。 权利要求书1页 说明书8页 附图9页 CN 114472276 A 2022.05.13 CN 114472276 A 1.一种用于基板减薄的清洗装置， 其特征在于， 包括： 清洗部、 驱动部和承载部， 所述承 载部为板状结构， 所述驱动部设置于所述承载部的侧面， 所述清洗部与所述 驱动部连接， 所 述驱动部驱动清洗部旋转以清洗吸盘工作台或基板； 所述清洗部包括第一清洗单元和 第二 清洗单元， 其中一个清洗单元的底部配置有刷体及修整体， 以清洗吸盘工作台； 其中另一个 清洗单元的底部配置有刷体， 以清洗基板； 所述清洗部包括法兰盘、 第一安装板及第二安装 板， 所述第一安装板及第二安装板为盘状结构， 其依次同心设置于 法兰盘的下部； 所述第一 安装板的内部设置有流体通道， 所述第一安装板的底面配置与流体通道相连通的喷嘴， 所 述喷嘴沿第一安装板的半径方向朝向清洗部的边缘位置倾斜设置； 所述第二安装板的底面 配置有沿径向的刷体和/或修整体。 2.如权利要求1所述的清洗装置， 其特征在于， 沿半径方向设置的喷嘴为多排， 其以第 一安装板的中心为基准均匀分布； 所述喷 嘴的管径自第一 安装板的中心向外逐渐 变小。 3.如权利要求2所述的清洗装置， 其特征在于， 所述第二安装板配置有贯通孔， 所述贯 通孔与所述喷嘴设置位置相匹配； 所述第一安装板的喷嘴经由所述第二安装板的贯通孔朝 向下侧延伸。 4.如权利要求3所述的清洗装置， 其特 征在于， 相邻喷 嘴的轴线与水平面的夹角不同。 5.如权利要求3所述的清洗装置， 其特征在于， 所述贯通孔设置于所述刷体和/或修整 体之间， 所述喷嘴朝向所述刷体和/或修整体喷射流体， 以清洁刷体和/或修整体的表面杂 物。 6.如权利要求1所述的清洗装置， 其特征在于， 所述第 一安装板与第 二安装板之间设置 有导向柱， 所述第一安装板配置有导向孔， 所述导向柱经 由所述导向孔螺纹连接于所述第 二安装板； 所述导向柱与导向孔间隙配合， 所述第二安装板及其上 的导向柱 能够沿所述导 向孔上下移动， 以调节刷体和/或修整体的位置 。 7.如权利要求6所述的清洗装置， 其特征在于， 所述导向柱的外周侧套设有柔性件， 所 述柔性件位于所述第一 安装板与第二 安装板之间， 以缓冲刷体和/或修整体的移动。 8.如权利要求1所述的清洗装置， 其特征在于， 还包括水平移动部， 其设置于承载部的 另一侧面； 所述水平移动部能够驱动承载部及其上的第一清洗单元和 第二清洗单元水平移 动， 以切换吸盘工作台和基板的清洗； 所述驱动部包括旋转机构和竖向移动机构； 所述旋转 机构设置于所述竖向移动机构， 所述清洗部连接于旋转机构的底部； 所述竖向移动机构设 置于所述承载部的侧面， 其能够带动旋转机构及其上的清洗部竖直移动以调节清洗部的位 置。 9.一种基板减薄装备， 其特 征在于， 包括权利要求1至8任一项所述的清洗装置 。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 114472276 A 2一种用于基板减薄的清洗装 置 技术领域 [0001]本发明属于基板制造技 术领域， 具体而言， 涉及一种用于基板减薄的清洗装置 。 背景技术 [0002]基板经过减薄后， 其表面会存留磨屑和砂轮脱落的颗粒等微粒， 仅通过去离子水 冲洗和干燥空气吹干的方法是无法全部去除的， 这就会在后道抛光工序中微粒处形成缺 陷， 即而影响到基板表面质量。 尤其是的多孔吸盘的边缘位置， 若不及时清理堆积的颗粒 物， 这会影响吸盘工作台的平整度， 影响吸盘工作台倾斜度的调整， 致使基板减薄(磨削)效 果变差。 发明内容 [0003]本发明旨在至少一定程度上解决现有技 术中存在的技 术问题之一。 [0004]为此， 本发明实施例的提供了一种用于基板减薄的清洗装置， 其包括清洗部、 驱动 部和承载部， 所述承载部为板状结构， 所述驱动部 设置于所述承载部的侧面， 所述清洗部与 所述驱动部连接， 所述驱动部驱动清洗部旋转以清洗吸盘工作台或基板； 所述清洗部包括 第一清洗单元和第二清洗单元， 其中一个清洗单元 的底部配置有刷体及修整体， 以清洗 吸 盘工作台； 其中另一个清洗单元的底部配置有刷体， 以清洗基板； 所述清洗部包括法兰盘、 第一安装板及第二安装板， 所述第一安装板及第二安装板为盘状结构， 其依 次同心设置于 法兰盘的下部； 所述第一安装板的内部设置有流体通道， 所述第一安装板的底面配置与流 体通道相连通的喷嘴， 所述喷嘴沿第一安装板的半径方向朝向清洗部的边缘位置倾斜设 置； 所述第二 安装板的底面配置有沿径向的刷体和/或修整体。 [0005]作为优选实施例， 沿半径方向设置 的喷嘴为多排， 其以第一安装板 的中心为基准 均匀分布； 所述喷 嘴的管径自第一 安装板的中心向外逐渐 变小。 [0006]作为优选实施例， 所述第二安装板配置有贯通孔， 所述贯通孔与所述喷嘴设置位 置相匹配； 所述第一 安装板的喷 嘴经由所述第二 安装板的贯 通孔朝向下侧延伸。 [0007]作为优选实施例， 相邻喷 嘴的轴线与水平面的夹角不同。 [0008]作为优选实施例， 所述贯通孔设置于所述刷体和/或修整体之间， 所述喷嘴朝向所 述刷体和/或修整体喷射 流体， 以清洁刷体和/或修整体的表面杂物。 [0009]作为优选实施例， 所述第一安装板与第二安装板之间设置有导向柱， 所述第一安 装板配置有导向孔， 所述导向柱经 由所述导向孔螺纹连接于所述第二安装板； 所述导向柱 与导向孔间隙配合， 所述第二安装板及其上 的导向柱 能够沿所述导向孔上下移动， 以调节 刷体和/或修整体的位置 。 [0010]作为优选实施例， 所述导向柱的外周侧套设有柔性件， 所述柔性件位于所述第一 安装板与第二 安装板之间， 以缓冲刷体和/或修整体的移动。 [0011]作为优选实施例， 还包括水平移动部， 其设置于承载部的另一侧面； 所述水平移动 部能够驱动承载部及其上的第一清洗单元和 第二清洗单元水平移动， 以切换吸盘工作台和说　明　书 1/8 页 3 CN 114472276 A 3