(19)中华 人民共和国 国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202111676953.6 (22)申请日 2021.12.31 (71)申请人 无锡小迪电子科技有限公司 地址 214000 江苏省无锡市新吴区菱湖大 道228号天安智慧城3 -909 (72)发明人 马东　李晓玲　 (74)专利代理 机构 无锡派尔特知识产权代理事 务所(普通 合伙) 32340 代理人 杨立秋 (51)Int.Cl. B08B 1/00(2006.01) B08B 7/00(2006.01) B08B 13/00(2006.01) B08B 15/04(2006.01) F16F 15/04(2006.01) (54)发明名称 一种适用 于第三代半导体材料兼容硅基等 离子去胶机 (57)摘要 本发明公开了一种适用于第三代半导体材 料兼容硅基等离子去胶机， 包括等离子去胶机本 体和底座， 所述底座位于等离子去胶机本体的下 方， 底座的顶部开设有四个呈两两对称设置的安 装槽， 等离子去胶机本体的底部固定安装有四个 支撑柱。 本发明设计合理， 实用性好， 能够对半导 体材料的上表 面和下表面进行自动清洁除尘， 并 能够对清扫下来的灰尘杂质进行收集， 不需人工 手动操作对半导体材料表面进行清洁， 减少了工 作人员的劳动量， 避免半导体材料携带灰尘杂质 进入等离子去胶机本体内， 提高了去胶质量， 而 且能够对等离子去胶机本体受到的震动力进行 有效的缓冲减震， 提高了等离子去胶机本体的抗 震性能， 避免等离子去胶机本体受到震动力而损 坏。 权利要求书2页 说明书6页 附图4页 CN 114308764 A 2022.04.12 CN 114308764 A 1.一种适用于第三代半导体材料兼容硅基等离子去胶机， 包括等离子去胶机本体(1) 和底座(2)， 其特征在于： 所述底 座(2)位于所述等离子去胶机本体(1)的下方， 所述底 座(2) 的顶部开设有四个呈两两对称设置的安装槽(3)， 所述等离子去胶机本体(1)的底部固定安 装有四个支撑柱(4)， 四个所述支撑柱(4)的底端分别滑动安装在相对应的所述安装槽(3) 内， 所述底 座(2)的顶部中间位置开设有凹槽(5)， 所述等离子去胶机本体(1)的底部固定安 装有梯形座(6)， 所述梯形座(6)的两侧均为倾斜设置， 所述梯形座(6)的底部延伸至所述凹 槽(5)内并固定安装有横板(7)， 所述等离子去胶机本体(1)和底座(2)之间设置有减震机 构， 所述等离子去胶机本体(1)的顶部固定安装有清洁箱(18)， 所述清洁箱(18)的前侧为开 口设置， 所述清洁箱(18)的前侧 外壁上转动安装有箱门(19)， 所述清洁箱(18)的左侧内壁 和右侧内壁上均固定安装有电动推杆(20)， 两个所述电动推杆(20)的输出轴端均固定安装 有夹板(21)， 所述清洁箱(18)上设置有清洁机构， 等离子去胶机本体(1)的顶部设置有吸尘 组件。 2.根据权利要求1所述的一种适用于第三代半导体材料兼容硅基等离子去胶机， 其特 征在于： 所述减震机构包括四个第一阻尼垫(8)、 四个第一减震弹簧(9)、 第二阻尼垫(10)、 多个第二减震弹簧(11)、 两个矩形滑板(13)、 两个横杆(14)、 两个 圆球(15)、 两个第三阻尼 垫(16)和两个第三减震弹簧(17)， 四个所述第一阻尼垫(8)均固定安装在所述底座(2)的顶 部， 四个所述第一减震弹簧(9)的底端分别与相 对应的所述第一阻尼垫(8)固定连接， 四个 所述第一减震弹簧(9)的顶端均与所述等离子去胶机本体(1)的底部固定连接， 四个所述第 一减震弹簧(9)分别套设在相对应的所述支撑柱(4)上， 所述第二阻尼垫(10)固定安装在所 述凹槽(5)的底部内壁上， 多个所述第二减震弹簧(11)的底端均与所述第二阻尼垫(10)固 定连接， 多个所述第二减震弹簧(11)的顶端均与所述横板(7)的底部固定连接， 所述凹槽 (5)的两侧内壁上均开设有矩形滑槽(12)， 两个所述矩形滑板(13)分别滑动安装在相对应 的所述矩形滑槽(12)内， 两个所述横杆(14)分别固定安装在两个所述矩形滑板(13)相互靠 近的一侧， 两个所述横杆(14)相互靠近的一端分别延伸至相 对应的所述矩形滑槽(12)外， 两个所述圆球(15)分别固定安装在两个所述横杆(14)相互靠近的一端， 两个所述圆球(15) 分别与所述梯形座(6)的两侧倾斜面接触， 两个所述第三阻尼垫(16)分别固定安装在两个 所述矩形滑板(13)相互远离的一侧， 两个所述第三减震弹簧(17)分别位于相对应的所述矩 形滑槽(12)内， 两个所述第三减震弹簧(17)相互靠近的一端分别与相对应的所述第三阻尼 垫(16)固定连接， 两个所述第三减震弹簧(17)相互远离的一端分别与相对应所述矩形滑槽 (12)的一侧内壁固定连接 。 3.根据权利要求1所述的一种适用于第三代半导体材料兼容硅基等离子去胶机， 其特 征在于： 所述安装槽(3)的两侧内壁上均开设有限位槽， 所述支撑柱(4)的两侧均固定安装 有限位杆， 所述限位杆滑动安装在相对应的所述限位槽内。 4.根据权利要求1所述的一种适用于第三代半导体材料兼容硅基等离子去胶机， 其特 征在于： 所述清洁机构包括两个轴座(22)、 两个活动轴(23)、 两个推板(24)、 两个复位弹簧 (25)、 两个刷板(26)、 两组刷毛(27)和传动组件， 两个所述轴座(22)均固定安装在所述清洁 箱(18)的后侧内壁上， 两个所述活动轴(23)分别滑动安装在相对应的所述轴座(22)上， 两 个所述推板(24)分别固定安装在相对应所述活动轴(23)的左端， 两个所述复位弹簧(25)的 一端分别与相对应所述推板(24)的右侧壁固定连接， 两个所述复位 弹簧(25)的另一端分别权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 114308764 A 2与相对应的所述轴座(22)固定连接， 两个所述复位 弹簧(25)分别套设在相对应的所述活动 轴(23)上， 两个所述刷板(26)分别固定安装在相对应的所述推板(24)上， 两组刷毛(27)分 别固定安装在两个所述推板(24)相互靠 近的一侧。 5.根据权利要求4所述的一种适用于第三代半导体材料兼容硅基等离子去胶机， 其特 征在于： 所述传动组件包括两个传动轴(28)、 两个凸轮(29)、 两个皮带轮(30)、 皮带(31)和 电机(32)， 两个所述传动轴(28)均转动安装在所述清洁箱(18)的后侧内壁上， 两个所述凸 轮(29)分别固定套设在相对应所述传动轴(28)的前端， 两个所述凸轮(29)分别与相对应的 所述推板(24)接触， 两个所述传动轴(28)的后端均延伸至所述清洁箱(18)外， 两个所述皮 带轮(30)分别固定套设在相对应所述传动轴(28)的后端， 所述皮带(31)绕设在两个所述皮 带轮(30)上， 所述电机(32)固定安装在所述清洁箱(18)的后侧外壁上， 所述电机(32)的输 出轴端与两个所述传动轴(28)中的一个传动轴(28)的后端固定连接 。 6.根据权利要求1所述的一种适用于第三代半导体材料兼容硅基等离子去胶机， 其特 征在于： 所述吸尘组件包括吸尘风机(33)、 集尘箱(34)、 吸尘管(35)、 多个吸尘罩(36)和排 尘管(37)， 所述吸尘风机(33)固定安装在所述清洁箱(18)的右侧外壁上， 所述集尘箱(34) 固定安装在所述等离子去胶机本体(1)的顶部， 所述吸尘管(35)通过管卡安装固定在所述 清洁箱(18)的右侧内壁上， 多个所述吸尘罩(36)呈等间距固定安装在所述吸尘管(35)上， 所述吸尘管(35)的一端延伸至清洁箱(18)外并与所述吸尘风机(33)的吸入端固定连接， 所 述排尘管(37)的一端与所述吸尘风机(33)的吸入端固定连接， 所述排尘管(37)远离吸尘风 机(33)的一端延伸至所述 集尘箱(34)内。 7.根据权利要求6所述的一种适用于第三代半导体材料兼容硅基等离子去胶机， 其特 征在于： 所述集尘箱(34)的顶部为开口构造， 所述集尘箱(34)的顶部通过螺钉固定安装有 盖板(38)， 所述盖 板(38)的顶部开设有出气孔， 所述出气孔内 固定安装有挡尘网。 8.根据权利要求1所述的一种适用于第三代半导体材料兼容硅基等离子去胶机， 其特 征在于： 两个所述夹 板(21)相互靠 近的一侧均固定安装有防滑垫 。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 114308764 A 3