(19)中华 人民共和国 国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202111658773.5 (22)申请日 2021.12.3 0 (71)申请人 上海至纯洁净系统科技股份有限公 司 地址 200241 上海市闵行区紫海路170号 申请人 合肥至汇半导体 应用技术有限公司 (72)发明人 唐宝国　丁立　 (74)专利代理 机构 上海智力专利商标事务所 (普通合伙) 31105 代理人 周涛 (51)Int.Cl. B08B 3/12(2006.01) B08B 13/00(2006.01) H01L 21/67(2006.01) (54)发明名称 双层式兆波清洗系统 (57)摘要 本发明涉及一种双层式兆 波清洗系统， 包括 底座、 超声波信号发生装置、 浴槽、 用以晶圆清洗 的清洗槽， 超声波信号发生装置安装在底座上， 底座为可动底 座， 底座运动改变超声波信号发生 装置相对清洗槽发射声波的方向； 浴槽安装在超 声波信号发生装置上端， 浴槽内盛装有声波传导 介质； 清洗槽安装在浴槽上方， 清洗槽的底部浸 入浴槽内的声波传导介质中， 清洗槽中盛装有清 洗液。 本发 明通过底座的运动改变超声波信号发 生装置的声波方向， 改变晶圆片在声波方向的投 影面积， 进而 提升清洗效果和效率， 同时， 声波方 向的改变在 清洗槽的底部产生压差， 使得聚集在 清洗槽底部的气泡消除， 减少了超声波的能量损 失， 提升清洗效果。 权利要求书1页 说明书3页 附图4页 CN 114273328 A 2022.04.05 CN 114273328 A 1.双层式兆波清洗系统， 其特征在于， 其结构包括底座、 超声波信号发生装置、 浴槽、 用 以晶圆清洗的清洗槽， 所述超声波信号发生装置安装在底座上， 底座为可动底 座， 所述底 座 运动改变超声波信号 发生装置相对清洗槽发射声波的方向； 所述浴槽安装在超声波信号 发 生装置上端， 所述浴槽内盛装有声波传导介质； 所述清洗槽安装在浴槽上方， 所述清洗槽的 底部浸入浴槽内的声 波传导介质中， 所述清洗 槽中盛装有清洗液。 2.根据权利要求1所述的双层式兆波清洗系统， 其特征在于， 所述清洗槽内还设有溢流 槽， 所述溢流槽嵌装在清洗 槽中， 所述清洗液盛装在溢流槽中。 3.根据权利要求2所述的双层式兆波清洗系统， 其特征在于， 所述清洗槽和溢流槽之间 还连接有用以清洗 槽和溢流槽之间清洗液循环流动的清洗液循环管路。 4.根据权利要求1所述的双层式兆波清洗系统， 其特征在于， 所述底座还包括用以控制 底座运动的驱动控制机构、 驱动底座 运动的驱动装置 。 5.根据权利要求1所述的双层式兆波清洗系统， 其特征在于， 所述底座的两侧安装有底 座支架， 所述底座活动安装在底座支架上； 清洗槽的外部 设有清洗槽支撑架； 所述清洗槽支 撑架和底座支 架相分离 。 6.根据权利要求2所述的双层式兆波清洗系统， 其特征在于， 所述溢流槽的上端边缘设 有若干溢流口， 所述溢流槽的上端面低于清洗 槽的上端面。 7.根据权利要求1所述的双层式兆波清洗系统， 其特征在于， 所述底座的运动方式包括 圆周运动、 简谐运动或摆动。 8.根据权利要求4所述的双层式兆波清洗系统， 其特征在于， 所述驱动装置为电机驱动 或液压驱动。 9.根据权利要求1所述的双层式兆波清洗系统， 其特征在于， 所述超声波信号发生装置 为兆声波发生装置 。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 114273328 A 2双层式兆 波清洗系统 技术领域 [0001]本发明涉及半导体工艺设备领域， 具体涉及一种双层式兆波清洗系统及清洗方 法。 背景技术 [0002]传统的超声波清洗设备在半导体晶体晶圆清洗方面已有长期应用， 随着制程线宽 越来越小， 对清洗要求越来越高， 超声波的频率也在不断提升， 从千赫兹提升到兆赫兹。 但 是随着声波频率的增加， 声波的指向性特征与能量衰减越加明显。 传统的清洗方式大多将 晶圆片垂直放置在超声波信号发生器的上方， 晶圆对于超声波的投影面积小， 晶圆中部与 顶部的清洗效果相对底部较弱。 [0003]现有的清洗设备一般是采用将清洗槽的槽底由平面改成了斜面， 或者在清洗槽的 底部增加循环机构， 减少清洗 槽底部集聚的气泡 量。 [0004]现有技术如申请号为CN201480023016.2的发明专利公开了一种超声波清洗装置 及清洗方法， 其采用具有倾 斜底部的清洗 槽,相邻清洗 槽的倾斜方向改变， 提升清洗效果。 [0005]现有技术还如申请号为CN202110599855.0的发明专利公开了一种半导体清洗设 备， 包括浴槽、 清洗槽、 声波信号发生装置、 传导介质喷射装置， 清洗槽用于容纳晶片， 清洗 槽底部置于浴槽内， 声波信号发生装置设置在浴槽底部， 浴槽中的传导介质用于将声波信 号向清洗槽传导， 传导介质喷射装置设置于浴槽中用于 向清洗槽的底部喷射传导介质， 通 过从一侧向另一侧流动的传导介质将晶圆清洗 槽底部的气泡推离清洗 槽的底部 。 [0006]现有的技术在相同功率的情况下， 增加了超声波的利用率， 但是超声波传导方向 与晶圆表面接触的面积并未改变， 晶圆片在超声波传导范围内的投影面积也没有发生改 变。 发明内容 [0007]为了消除清洗槽底部聚集的气泡， 增加晶圆清洗 的效果和效率， 本发明提供了一 种双层式兆波清洗系统. [0008]本发明的技 术目的是通过以下技 术方案实现的： [0009]双层式兆波清洗系统， 其结构包括底座、 超声波信号发生装置、 浴槽、 用以晶圆清 洗的清洗槽， 超声波信号 发生装置安装在底座上， 底座为可动底座， 底座运动改变超声波信 号发生装置相对清洗槽发射声波的方向； 浴槽安装在超声波信号发生装置上端， 浴槽内盛 装有声波传导介质； 清洗槽安装在浴槽上方， 清洗槽的底部浸入浴槽内的声波传导介质中， 清洗槽中盛装有清洗液。 [0010]进一步地， 清洗槽内还设有溢流槽， 溢流槽嵌装在清洗槽中， 清洗液盛装在溢流槽 中。 [0011]进一步地， 清洗槽和溢流槽之间还连接有用以清洗槽和溢流槽之间清洗液循环流 动的清洗液循环管路。说　明　书 1/3 页 3 CN 114273328 A 3