(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 20212310 0674.3 (22)申请日 2021.12.10 (73)专利权人 广东奥普特 科技股份有限公司 地址 523000 广东省东莞 市长安镇锦厦社 区河南工业区锦升路8号 (72)发明人 钟超　 (74)专利代理 机构 北京集佳知识产权代理有限 公司 11227 专利代理师 韩丽波 (51)Int.Cl. G01N 21/84(2006.01) G01N 21/01(2006.01) (54)实用新型名称 一种双工位同轴光 光源及检测装置 (57)摘要 本实用新型公开了一种双工位同轴光光源 及检测装置， 双工位同轴光光源包括半透半反单 元和遮光装置； 半透半反单元沿第一方向 的两侧 分别设置有发光单元与第一检测工位； 半透半反 单元沿第二方向的两侧分别设置有相机安装位 与第二检测工位； 第一方向与第二方向垂直； 当 第一检测工位设置有工件时， 遮光装置阻挡半透 半反单元至第二检测工位之间的光路； 当第二检 测工位设置有工件时， 遮光装置阻挡半透半反单 元至第一检测工位之间的光路。 当工件的位置发 生变化时， 仅需切换遮光装置的遮挡位置即可完 成检测位置的切换， 降低了操作的繁琐性， 提高 了双工位同轴光 光源及检测装置的灵活性。 权利要求书1页 说明书5页 附图5页 CN 216747429 U 2022.06.14 CN 216747429 U 1.一种双工位同轴光 光源， 其特 征在于， 包括半透半反单 元(10)和遮光装置(40)； 所述半透半反单元(10)沿第一方向的两侧分别设置有发光单元(20)与第一检测工位 (31)； 所述半透半反单元(10)沿第二方向的两侧分别设置有相机安装位(60)与第二检测工 位(32)； 所述第一方向与所述第二方向垂直； 当所述第一检测工位(31)设置有工件(02)时， 所述遮光装置(40)阻挡所述半透半反单 元(10)至所述第二检测工位(32)之间的光路； 当所述第二检测工位(32)设置有工件(02)时， 所述遮光装置(40)阻挡所述半透半反单 元(10)至所述第一检测工位(31)之间的光路。 2.根据权利要求1所述的双工位同轴光光源， 其特征在于， 还包括光源底座(50)， 所述 光源底座(5 0)内开设有安装槽(51)， 所述发光单 元(20)设置 于所述安装槽(51)的槽底； 所述安装槽(51)的槽口(52)与所述第一检测工位(31)相对设置； 所述安装槽(51)的槽壁上还开设有避让口(53)和相机观察口(54)， 所述避让口(53)与 所述第二检测工位(32)相对设置， 所述相机观察口(54)与所述相机安装位(6 0)相对设置 。 3.根据权利要求2所述的双工位同轴光光源， 其特征在于， 所述遮光装置(40)包括吸光 挡板(41)， 所述吸光挡板(41)与所述 光源底座(5 0)转动连接； 当所述第一检测工位(31)设置有工件(02)时， 所述吸光挡板(41)封堵所述避让口 (53)； 当所述第二检测工位(32)设置有工件(02)时， 所述吸光挡板(41)封堵所述槽口(52)。 4.根据权利要求3所述的双工位同轴光光源， 其特征在于， 所述吸光挡板(41)的两侧表 面均涂覆有黑色吸光涂层。 5.根据权利要求3所述的双工位同轴光光源， 其特征在于， 所述遮光装置(40)还包括转 轴(42)， 所述转轴(42)穿过所述安装槽(51)的两侧槽壁， 且所述转轴(42)的两端分别连接 有旋钮(43)； 所述吸光挡板(41)与所述 转轴(42)固定连接 。 6.根据权利要求3所述的双工位同轴光光源， 其特征在于， 所述槽口(52)的边沿开设有 定位槽(5 5)； 当所述第二检测工位(32)设置有工件(02)时， 所述吸光挡板(41)与所述定位槽(55)的 槽底抵接。 7.根据权利要求1所述的双工位同轴光光源， 其特征在于， 所述发光单元(20)与所述半 透半反单 元(10)之间设置有扩散 板(70)。 8.一种检测装置， 其特征在于， 包括如权利要求1 ‑7中任一项所述的双工位同轴光光 源。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216747429 U 2一种双工位同轴光 光源及检测装 置 技术领域 [0001]本实用新型涉及机器视觉技术领域， 尤其涉及一种双工位同轴光光源及检测装 置。 背景技术 [0002]机器视觉中的光源结构包括： 背光源、 同轴光、 非同轴漫反射光、 偏正光等多种类 型。 [0003]目前， 常用的对工件02表面进行检测的同轴光源检测结构如图1所示， 其经准直后 的平行准直光束以45 °入射半透半反镜01， 一部分光折转90 °后正入射待测的工件02， 由工 件02反射的携带有工件02表面信息的光再次到达 半透半反镜01， 透射进入上方的镜头与相 机03中， 完成对工件02 表面的测量。 [0004]该种同轴光源检测结构存在以下缺点： 当同轴光源检测结构的工件02的检测位置 变化时， 例如， 如图2所示， 当工件02 位于右侧时， 需要将同轴光源检测结构的各个部件对应 地绕中心旋转90度， 对于同轴光源检测结构而言， 相当于各个部件都需要重新定位并校正 误差， 导致同轴光源检测结构切换检测位置时过于 繁琐， 灵活性低。 实用新型内容 [0005]本实用新型的目的在于提供一种双工位同轴光光源及检测装置， 来解决目前同轴 光源检测结构切换检测位置时过于 繁琐的问题。 [0006]为达此目的， 本实用新型采用以下技 术方案： [0007]一种双工位同轴光 光源， 包括半透半反单 元和遮光装置； [0008]所述半透半反单 元沿第一方向的两侧分别设置有发光单 元与第一检测工位； [0009]所述半透半反单元沿第二方向的两侧分别设置有相机安装位与第二检测工位； 所 述第一方向与所述第二方向垂直； [0010]当所述第一检测工位设置有工件时， 所述遮光装置阻挡所述半透半反单元至所述 第二检测工位之间的光路； [0011]当所述第二检测工位设置有工件时， 所述遮光装置阻挡所述半透半反单元至所述 第一检测工位之间的光路。 [0012]可选地， 还包括光源底座， 所述光源底座内开设有安装槽， 所述发光单元设置于所 述安装槽的槽底； [0013]所述安装槽的槽口与所述第一检测工位相对设置； [0014]所述安装槽的槽壁上还开设有避让口和相机观察口， 所述避让口与所述第二检测 工位相对设置， 所述相机观察口与所述相机安装位相对设置 。 [0015]可选地， 所述遮光装置包括吸光挡板， 所述吸光挡板与所述 光源底座 转动连接； [0016]当所述第一检测工位设置有工件时， 所述吸光挡板 封堵所述避让口； [0017]当所述第二检测工位设置有工件时， 所述吸光挡板 封堵所述槽口。说　明　书 1/5 页 3 CN 216747429 U 3