(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123125 556.8 (22)申请日 2021.12.10 (73)专利权人 浙江清华 柔性电子技 术研究院 地址 314006 浙江省嘉兴 市南湖区亚太路 906号17号楼 (72)发明人 田悦　 (74)专利代理 机构 上海波拓知识产权代理有限 公司 31264 专利代理师 林丽璀 (51)Int.Cl. G01N 21/01(2006.01) (54)实用新型名称 超高真空样品二维角度调节机构 (57)摘要 本实用新型提供一种超高真空样品二维角 度调节机构， 旨在解决超高真空环境下， 由于空 间尺寸比较小而且常规的步进电机无法使用， 样 品的二维角度调节机构较少且无法保证旋转精 度的问题， 包括样品架， 其顶端中心用于样品的 放置以供显微镜或激光照射检测； 压电陶瓷旋转 台， 设置于样品架的下端并用于驱动样品架的旋 转以使样品旋转检测； 压电陶瓷倾转台， 设置于 压电陶瓷旋转台的下端并用于驱动压电陶瓷旋 转台和样品架的倾转以使样品倾转检测。 本实用 新型尤其适用于超高真空和极低温温度环境下 的样品二维角度调节， 具有较高的社会使用价值 和应用前 景。 权利要求书1页 说明书4页 附图7页 CN 217112029 U 2022.08.02 CN 217112029 U 1.一种超高真空样品二维角度调节机构， 其特 征在于， 包括： 样品架(3 0)， 其顶端中心用于样品的放置以供显微镜或激光照射检测； 压电陶瓷旋转 台(20)， 设置于所述样品架(30)的下端并用于驱动所述样品架(30)的旋 转以使所述样品旋转检测； 压电陶瓷倾转 台(10)， 设置于所述压电陶瓷旋转 台(20)的下端并用于驱动所述压电陶 瓷旋转台(20)和所述样品架(3 0)的倾转以使所述样品倾 转检测。 2.如权利要求1所述的超高真空样品二维角度调 节机构， 其特征在于： 所述样品架(30) 的顶端还设有若干个用于对所述样品施加电极的电极模块(304)、 用于样品精确控温的加 热器(302)和低温传感器(3 01)。 3.如权利要求2所述的超高真空样品二维角度调节机构， 其特征在于： 若干个所述电极 模块(304)均匀分布于所述样品的周向， 且所述电极模块(3 04)的数量依据所述样品调节。 4.如权利要求2所述的超高真空样品二维角度调 节机构， 其特征在于： 所述样品架(30) 对应所述加热器(302)和所述低温传感器(301)位置的顶壁上均开设有安装槽， 并于所述安 装槽内开设有用于导线接入的导线孔。 5.如权利要求1所述的超高真空样品二维角度调节机构， 其特征在于： 所述压电陶瓷旋 转台(20)包括， 用于固定所述样品架(3 0)的旋转平台(202)； 用于驱动所述旋转平台(202)水平向转动的压电陶瓷旋转电机； 以及， 套设于所述压电陶瓷旋转电机上用于防护所述压电陶瓷旋转电机的旋转台壳体 (201)。 6.如权利要求5所述的超高真空样品二维角度调节机构， 其特征在于： 所述旋转平台 (202)的中部开设有用于导线穿过的中空孔(20 3)。 7.如权利要求5所述的超高真空样品二维角度调节机构， 其特征在于： 所述旋转平台 (202)的旋转角度为0 ° ‑360°， 且旋转精度为0.01 °。 8.如权利要求5所述的超高真空样品二维角度调节机构， 其特征在于： 所述压电陶瓷倾 转台(10)包括， 固定于设备台面上的底座(101)； 对称一体成型于所述底座(101)上的两组倾转支撑座(104)， 且所述倾转支撑座(104) 的上端面 为弧形凹面结构； 两组分别匹配倾 转于所述 倾转支撑座(104)上的倾 转块(103)； 固定于所述旋转台壳体(201)底端且下端与两组所述倾转块(103)相连接的倾转平台 (102)； 以及， 固定于所述底座(101)上并与所述倾转块(103)相 连以驱动所述倾转平台(102) 倾转运动的压电陶瓷倾 转电机(10 5)。 9.如权利要求8所述的超高真空样品二维角度调节机构， 其特征在于： 所述倾转平台 (102)的倾 转幅度为 ±10°， 且倾转精度为0.01 °。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217112029 U 2超高真空样品二维角度调节机构 技术领域 [0001]本实用新型涉及材料研究技术领域， 具体涉及一种超高真空样品二维角度调节机 构。 背景技术 [0002]在材料研究中经常会涉及显微镜或者激光照射到样品表面， 并且还需要样品表面 沿两个方向进 行旋转以多方面观测或检测， 旋转时需要保证样品在水平 方向上不会产生很 大的移动， 否则容 易丢失显微镜的视野或者激光器的信号。 [0003]当某些样品需要置于超高真空和极低温温度下(4K)进行显微镜观测或激光检测 时， 由于空间尺寸比较小而且常规的步进电机无法使用， 使得目前超高真空的样品二维角 度调节机构较少且无法保证旋转精度。 为此， 我们提出了一种超高真空样品二维角度调节 机构。 实用新型内容 [0004]本实用新型的目的在于解决或至少缓解现有技 术中所存在的问题。 [0005]本实用新型提供一种超高真空样品二维角度调节机构， 包括： [0006]样品架， 其顶端中心用于样品的放置以供显微镜或激光照射检测； [0007]压电陶瓷旋转台， 设置于样品架的下端并用于驱动样品架的旋转以使样品旋转检 测； [0008]压电陶瓷倾转台， 设置于压电陶瓷旋转台 的下端并用于驱动压电陶瓷旋转台和样 品架的倾 转以使样品倾 转检测。 [0009]可选地， 所述样品架的顶端还设有若干个用于对样品施加电极的电极模块、 用于 样品精确控温的加热器和低温传感器。 [0010]可选地， 若干个所述电极模块均匀 分布于样品的周向， 且电极模块的数量依据样 品调节。 [0011]可选地， 所述样品架对应加热器和低温传感器位置的顶壁上均开设有安装槽并于 安装槽内开设有用于导线接入的导线孔。 [0012]可选地， 所述压电陶瓷旋转台包括， [0013]用于固定样品架的旋转平台； [0014]用于驱动旋转平台水平向转动的压电陶瓷旋转电机； [0015]以及， 套设于 压电陶瓷旋转电机上用于防护压电陶瓷旋转电机的旋转台 壳体。 [0016]可选地， 所述旋转平台的中部开设有用于导线穿过的中空孔。 [0017]可选地， 所述旋转平台的旋转角度为0 ° ‑360°， 且旋转精度为0.01 °。 [0018]可选地， 所述压电陶瓷倾 转台包括， [0019]固定于设备台面上的底座； [0020]对称一体成型于底座上的两组倾转支撑座， 且倾转支撑座的上端面为弧形凹面结说　明　书 1/4 页 3 CN 217112029 U 3