(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202222069273.4 (22)申请日 2022.08.08 (73)专利权人 漳州思美科新材 料有限公司 地址 363118 福建省漳州市高新区九湖镇 众创园2栋4楼 (72)发明人 康凯　陈旺　康威　覃伯成　 (74)专利代理 机构 南京苏创专利代理事务所 (普通合伙) 32273 专利代理师 王晶杰 (51)Int.Cl. G03F 7/30(2006.01) F26B 21/00(2006.01) (54)实用新型名称 狭缝风刀显 影控制装置 (57)摘要 本实用新型涉及一种狭缝风刀显影控制装 置， 包括显影机腔体以及显影机腔体内部设置的 旋转显影组件和狭缝风刀组件， 所述旋转显影组 件包括设置于上部的喷头模块和旋转模块， 所述 喷头组件包括显影液喷头和去离子水喷头， 所述 旋转组件包括旋转马达和设置于旋转马达上的 旋转平台， 所述狭缝风刀组件设置于显影机腔体 上部， 斜对着旋转平台。 本实用新型增加了狭缝 风刀， 通过干燥空气将显影液和水去除， 增强去 除效果， 配合显影降低转速， 减少光刻胶底部的 药液渗入。 权利要求书1页 说明书3页 附图4页 CN 218158733 U 2022.12.27 CN 218158733 U 1.一种狭缝风刀 显影控制装置， 其特征在于： 包括显影机腔体 （1） 以及设置于显影机腔 体 （1） 内部的旋转显影组件和狭缝风刀组件 （3） ， 所述旋转显影组件包括旋转平台 （7） 、 带动 所述旋转平台 （7） 转动的旋转马达 （4） 、 设置于所述旋转平台 （7） 上方的显影液喷头 （2） 和去 离子水喷头 （5） ， 所述显影液喷头 （2） 和去离子水喷头 （5） 均朝向旋转平台 （7） ， 所述狭缝风 刀组件 （3） 设于显影机腔体 （1） 上方， 能使底部吹出线状风， 对旋转平台 （7） 上药液进行吹 扫。 2.根据权利要求1所述的狭缝风刀显影控制装置， 其特征在于： 所述狭缝风刀组件 （3） 包括两个相 对拼合成为整体的风刀 （6） ， 每个风刀 （6） 包括风刀主体， 所述风刀主体上部和 下部分别设有进风凹槽 （61） 和狭长凹槽 （62） ， 所述进风凹槽 （61） 侧面还设有进气孔槽 （63） ； 所述两个风刀的进风凹槽 （61） 拼合形成进风空腔 （611） ， 所述两个风刀的狭长凹槽 （62） 拼合形成狭长出风道 （621） ， 所述两个风刀的进气孔槽 （63） 拼合形成进气通孔 （631） ， 所述进风凹槽 （61） 的深度比狭长凹槽 （62） 的深度要深。 3.根据权利要求2所述的狭缝风刀显影控制装置， 其特征在于： 所述进风空腔 （611） 和 狭长出风道 （621） 的长度为10~50cm， 所述进风空腔 （611） 宽度为0.5~5cm， 所述狭长出风道 （621） 的宽度为1~4mm。 4.根据权利要求2所述的狭缝风刀显影控制装置， 其特征在于： 所述进气通孔 （631） 在 进风空腔 （61 1） 两侧对称设置 。 5.根据权利要求4所述的狭缝风刀显影控制装置， 其特征在于： 所述进风空腔 （611） 两 侧各设两个所述进气通 孔 （631） 。 6.根据权利要求2所述的狭缝风刀显影控制装置， 其特征在于： 两所述风刀 （6） 之间设 置有密封条。 7.根据权利要求1所述的狭缝风刀显影控制装置， 其特征在于： 所述风刀 （6） 的出口方 向斜向对着旋转平台 （7） 。 8.根据权利要求7所述的狭缝风刀显影控制装置， 其特征在于： 所述风刀 （6） 与显影机 腔体 （1） 内壁夹角为3 0°。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 218158733 U 2狭缝风刀显影控制装 置 技术领域 [0001]本实用新型 涉及一种狭缝风刀显影控制装置， 属于 显影机技 术领域。 背景技术 [0002]光刻工艺是半导体芯片制造中非常重要的一道工艺， 它是借助光致抗蚀剂  (又名 光刻胶)将掩膜版上的图形转移到基板上， 一般要经历基板表面清洗烘干、 涂底、 光刻胶涂 布、 软烘、 对准曝光、 后烘、 显影、 硬烘、 刻蚀、 检测等工序。 其中， 目前微流控芯片制作过程中 需要进行手动显影， 手动显影不仅效率低下， 而且显影时间和效果不可控， 操作人员也容易 对芯片/硅片造成人为损坏 。 现有显影机在显影和水洗时多使用旋转离心来甩干， 而一旦速 度过大， 则甩出液体容易渗入到光刻 胶底部造成剥落或者 膨胀变形。 实用新型内容 [0003]实用新型目的： 针对上述问题， 本实用新型的目的是提供一种狭缝风刀显影控制 装置， 增加了狭缝风刀， 通过干燥空气将显影液和水去除， 增强去除效果， 配合显影降低转 速， 减少光刻 胶底部的药 液渗入。 [0004]技术方案： 一种狭缝风刀显影控制装置， 包括显影机腔体以及设置于显影机腔体 内部的旋转显影组件和狭缝风刀组件， 所述旋转显影组件包括旋转平台、 带动所述旋转平 台转动的旋转马达、 设置于所述旋转平台上方的显影液喷头和去离子水喷头， 所述显影液 喷头和去离子水喷头均朝向旋转平台， 所述狭缝风刀组件设于显影机腔体上方， 能使底部 吹出线状风， 对旋转平台上 药液进行吹扫。 [0005]进一步的， 所述狭缝风刀组件包括两个相对拼合成为整体的风刀， 每个风刀包括 风刀主体， 所述风刀主体上部和下部分别设有进风凹槽和狭长凹槽， 所述进风凹槽侧 面还 设有进气孔槽； 所述两个风刀的进风凹槽拼合形成进风空腔， 所述两个风刀的狭长凹槽拼 合形成狭长出风道， 所述两个风刀的进气孔槽拼合形成进气通孔， 所述进风凹槽的深度比 狭长凹槽的深度要深。 [0006]进一步的， 所述进风空腔和狭长出风道的长度为10~50cm， 所述进风空腔宽度为 0.5~5cm， 所述狭长出风道的宽度为1~4mm。 [0007]进一步的， 所述进气通 孔在进风空腔两侧对称设置 。 [0008]进一步的， 所述进风空腔两侧各设两个所述进气通 孔。 [0009]进一步的， 两所述 风刀之间设置有密封条。 [0010]进一步的， 所述 风刀的出口方向斜向对着旋转平台。 [0011]进一步的， 所述 风刀与显影机腔体内壁夹角为3 0°。 [0012]有益效果： 本实用新型与现有技术相比， 其显著优点是： 增加了一道狭缝风刀， 通 过干燥空气将显影液和水去除， 增强去除效果， 配合显影降低转速， 减少光刻胶底部的药液 渗入。 防止甩 出液体渗入到光刻 胶底部造成的剥落或者 膨胀变形。说　明　书 1/3 页 3 CN 218158733 U 3