ICS _31. 200 L 90 中华人民共和国国家标准 GB/T16523—1996 圆形石英玻璃光掩模基板规范 Specification for round quartz photomask substrates 1996-09-09发布 1997-05-01实施 国家技术监督局 发布 GB/T16523-—1996 前 言 本标准等效采用SEMI标准的SEMIP4一92《圆形石英玻璃光掩模基板规范》 本标准第3章要求全部按SEMIP4一92制定,标准格式按GB/T1.1—1993《标准化工作导则标准 编写的基本规定》编制。 SEMI标准是半导体设备和材料国际标准,具有较高的科学性和先进性,内容全面,标准配套。本标 准与已经转化为我国标准的SEMIP1—92《硬面光掩模基板》(GB/T15871—1995)、SEMIP2—86《硬 面光掩模用铬薄膜》(GB/T15870—1995)、SEMIP3—90《硬面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂规 范》(GB/T16527—1996)、SEMIP6—88《光掩模对准标记规范》(GB/T16524—1996)及准备转化为我 国标准的SEMIP2192《掩模光系统准确度表示准则》、SEMIP22—93《光掩模缺陷分类和尺寸定义 的指南》、SEMIP19一92《用于集成电路制造技术的检测图形单元规范》等项标准形成一个微型构图标 准系列。 本标准附录A是提示的附录。 本标准由中华人民共和国电子工业部提出。 本标准由电子工业部标准化研究所归口。 本标准起草单位:长沙韶光微电子总公司,电子工业部标准化研究所。 本标准主要起草人:谈仁良、吴保华、王亦林、韩艳芬。

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